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產(chǎn)品名稱:

ICP-MS 等離子體源

產(chǎn)品型號(hào): RADOM
更新時(shí)間: 2026-04-16
品牌: RADOM
生產(chǎn)地址:
RADOM等離子體源,可直接替換 ICP-MS 原有氬離子源,重構(gòu)激發(fā)環(huán)境,突破傳統(tǒng)分析邊界,告別同位素干擾困局,重塑 ICP-MS 分析新境界!
  • 詳細(xì)內(nèi)容

儀器簡(jiǎn)介

RADOM (拉多姆) 專(zhuān)注等離子體技術(shù)領(lǐng)域,為分析儀器、清潔技術(shù)和制氫、固氮等行業(yè)提供可持續(xù)和創(chuàng)新的解決方案。在過(guò)去15年中,RADOM 的科學(xué)家們專(zhuān)注于等離子體技術(shù)的改革創(chuàng)新,開(kāi)發(fā)出一種高度差異化的等離子體技術(shù),目前已在全球多個(gè)國(guó)家和地區(qū)獲得知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)。

該技術(shù)能夠產(chǎn)生強(qiáng)大且可持續(xù)的等離子體,用于ICP-OES的突破性等離子體發(fā)生器無(wú)需水回路、冷卻器或散熱器,更有100 kW 高功率發(fā)生器選項(xiàng)。這種可擴(kuò)展、無(wú)電極的設(shè)計(jì)提供了的效率,旨在提高安全性、降低運(yùn)營(yíng)成本并減少環(huán)境污染,為大規(guī)模工業(yè)和環(huán)境應(yīng)用打開(kāi)了大門(mén)。

RADOM 開(kāi)發(fā)的高性能等離子體發(fā)生器,可以將空氣、N2、CO2、H2、水蒸氣等氣體加熱至等離子體狀態(tài),溫度超過(guò)5500℃,能夠?yàn)榭蒲袑?shí)驗(yàn)室提供緊湊、易用、可靠且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的等離子體解決方案,滿足等離子體與材料科學(xué)研究的迫切需求。廣泛應(yīng)用于材料加工、表面活化改性、滅菌、氣化、NOx可控合成、等離子體刻蝕、鍍膜與噴涂等領(lǐng)域。

ICP-MS 等離子體源


主要特點(diǎn)

配套 ICP-MS 使用的RADOM等離子體源,可直接替換原有氬離子源,重構(gòu)激發(fā)環(huán)境,突破傳統(tǒng)分析邊界:
■ 依托十余年成熟的 Cerawave“瓷能環(huán)"技術(shù),形成穩(wěn)定且高性能的等離子體,基體耐受性更強(qiáng);
■ 無(wú)氬工作環(huán)境,從源頭消除氬基多原子離子干擾,大幅提升檢測(cè)精度與數(shù)據(jù)可靠性;
■ 特別適合39K/40Ca/56Fe/75As/80Se等同位素高精度分析,無(wú)需依賴碰撞/反應(yīng)池或冷等離子體技術(shù);
■ 模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)與原氬離子源切換自如,優(yōu)化后的RF系統(tǒng)有效降低高壓負(fù)載,增強(qiáng)耐用性,做到低維護(hù);
■ 對(duì)于因離子源故障(尤其RF模塊)而年久失修的ICP-MS,能夠使其煥發(fā)新生;
■ 兼容多種 ICP-MS 采樣口,適合基于四極桿、飛行時(shí)間(TOF)及激光剝蝕(LA)等研究探索的質(zhì)譜實(shí)驗(yàn)室。


成熟應(yīng)用

■ 44Ca/40Ca 及 44Ca/42Ca 的同位素組成
■ 87Sr/86Sr 同位素豐度比
■ 鋰離子電池老化過(guò)程研究(Li 同位素分餾)
■ 單細(xì)胞技術(shù)分析富Se酵母
■ 人體血清中 Ca、Fe、Se 的精確定量分析
■ 稻米 As 元素形態(tài)分析中的應(yīng)用
■ 鋼鐵痕量元素分析
■ 土壤多元素分析
■ 激光剝蝕聯(lián)用










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